产品与服务

PECVD

12英寸 PECVD设备

天枢 P12 系列
天枢 P12 系列是公司自主研发生产的,基于等离子体化学气相沉积的介质层薄膜沉积设备。目前可实现PE-TEOS oxide, PE-SiH4 oxide, PE-SiN等介质层薄膜沉积。可以用于28纳米及以上工艺的集成电路, 先进封装,Micro LED制造。
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