12英寸 PECVD设备

天枢 P12 系列是公司自主研发生产的，基于等离子体化学气相沉积的介质层薄膜沉积设备。目前可实现PE-TEOS oxide, PE-SiH4 oxide, PE-SiN等介质层薄膜沉积。可以用于28纳米及以上工艺的集成电路， 先进封装，Micro LED制造。